---
---
---(点击查看产品报价)
本文标题："掩膜材料表面分析便携式图像显微镜厂商"
新闻来源：未知 发布时间：2018-10-1 23:19:34 本站主页地址：http://www.jiance17.com
掩膜材料表面分析便携式图像显微镜厂商
曝光后坚膜
改善抗蚀剂抗蚀性能的另一种技术是曝光后坚膜。工艺步骤是=涂胶，
曝光，然后再将版子在90℃下烘lOmln。这一措施是为了防止抗蚀剂在显影
期间的浮胶问题，其目的是为了提高抗蚀剂的抗蚀性能。曝光后坚膜对平
滑的掩膜材料表面来说更为有效。因为平滑的表面同抗蚀剂的结合力较差
。曝光后坚膜的突出优点是能消除曝光时产生的驻波图形和显影前的部分
潜像。由于用了高反射率的衬底，驻波现象是一个普遍问题。按照抗蚀剂
中增感剂受热后将重新分布的理论，曝光后坚膜确能消除驻波图形，．改
善图形的边缘情况。-曝光后坚膜的唯一缺点是，与一般的方法相比，显影
逮率略有降低
另一个技术是在显影后和后烘之前使抗蚀荆曝光；显影后曝光能使抗
蚀剂中的氮气及早放出，使得抗蚀剂在后烘期间变得更致密。显影后曝光
消除了在后烘期间由于氮气的释放而形成的针孔，保证了以后的刻蚀质量
。 ·一 。
典型盼显影后曝光工艺是。涂敷，前烘，曝光(成像)，显影，然后再
用短波长汞灯对抗蚀剂照射5一15s。这里关键的问题是保证显影后曝光的
时间与用于成像的曝光时间相匹配。显影后曝光龄突出优点是去胶方便，
大量的实践已经证明，正性抗蚀剂的显影后曝光大大简化了去胶工艺。、
一般情况下正性抗蚀搿的前烘温度较低，但已能基本保证抗蚀剂的粘附力
和抗蚀性能。
所有资料用于交流学习之用，如有版权问题请联系，禁止复制,转载注明地址
上海光学仪器一厂-专业显微镜制造商 提供最合理的显微镜价格
合作站点：http://www.sgaaa.com/显微镜百科