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本文标题："根据不同用户不同要求实验研究开发光刻胶"
新闻来源：未知 发布时间：2018-10-1 23:19:21 本站主页地址：http://www.jiance17.com
根据不同用户不同要求实验研究开发光刻胶
大多数的光学和非光学抗蚀剂需要靠坚膜来提高抗蚀性。主要目的是
为了减少在刻蚀工艺中所弓I起的图像钻蚀：对不同的刻蚀工艺，坚膜条件
也不同。干法刻蚀工艺的各向异性性能比较好，其坚膜的时间和温度可适
当地减少和降低。干法刻蚀的工艺条件主要取决于刻蚀用的工作气体。近
年来蚀剂的品种在逐年增加，新的抗蚀剂具有更好的化学和物理性能。这
些材料都有各自的千法瓤蚀和湿法刻蚀的刻蚀剂。选择刻蚀剂的依据是，
通过刻蚀后，原有抗蚀剂的图像几何尺寸应保持基本不变、边缘整齐、无
严重钻蚀现象。
一般来说，通过坚膜可以提高抗蚀剂的化学稳定性。衡量一种掩膜材
料好坏的标准是通过刻蚀后，在成像区投有针孔，在非成像区没有抗蚀剂
的残留物和其他沾污。抗蚀刹必须能在某种溶液中彻底清除干净，同时这
种溶液又不能影响衬底。遗憾的是，事实上没有一种扰蚀剂能完全达到这
些要求。
现在，实验研究开发光刻胶的目标是：根据不同用户的不同要求，提
供各种光抗蚀剂和电子束抗蚀剂。正性光致抗蚀剂独霸市场的时代已经过
去了，各种新的抗蚀剂正在不断涌现。目前有几种新的抗蚀剂已进入最后
的测试阶段，不久就可以商品化。最引人注目的是为某种特殊工艺要求设
计的高温抗蚀剂，它的特点是坚膜温度高，抗蚀性能好，分辨率高，这种
材料较适应于难瓣蚀材料的掩膜层。
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