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半导体覆层失效故障的根本原因是制造质量不良,既包括施加
覆层的生产过程,也包括定期进行的确保覆层电阻值适宜的试验过
程。人们普遍认为,当局部覆层表面电阻值过高时,上述过程就开
始了。这可能是因为该局部的石墨颗粒密度太低。如果局部覆层阻
值较高的线圈正好处于相出线端,电容电流将从铜导体开始,穿过
主绝缘。经半导体覆层再到铁心。由于半导体覆层在线圈顶部和底
部的窄面(即线圈截面的窄面)以及在通风道部位不能直接接触到铁
心,一部分电容电流必定还要并联到线棒或线圈的表面,如果覆层
电阻值较高,沿侧面流动的电流会产生些许12R损耗,使覆层这些
部位的局部温度升高。该温升加上线圈运行温度,会导致半导体覆
层氧化,又会进一步使其电阻值增加,从而使问题更趋恶化。另外
,在局部半导体覆层电阻值无穷大的部位(即石墨颗粒密度低于具
有导电性的临界值),即使是不到1 cm直径的小斑点,也可能发生P
D,
这种问题尤其可能发生在PWM电压源逆变器馈电的定子上㈧J。
因为逆变器中开关频率典型值是l kHz或更高,穿过半导体覆层流
动的电容电流将比50/60Hz正弦电压情况下大20倍以上。所增加的
穿过覆层的电流也就以二次方关系增加了发热效应,于是急剧地增
加了半导体覆层的劣化速度。
这个问题的另一种情况是,即使半导体覆层的电阻值恒定并且
合格(典型值是表面电阻每平方500~500011),在某些制造过程中
,恰好在半导体覆层下面,位于主绝缘和半导体覆层之间,可能存
在微小气隙。若该线圈处于相出线端,这些空隙中会产生局部放电
,而PD会腐蚀半导体覆层,增加其电阻,最终会发展到上述的覆层
劣化阶段。
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