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本文标题："硅钢氧化层的磁滞实验分析图像光学显微镜"
新闻来源：未知 发布时间：2018-2-22 9:23:33 本站主页地址：http://www.jiance17.com
硅钢氧化层的磁滞实验分析图像光学显微镜
影响铁损的其他因素
普通的铁损是磁滞损耗和涡流损耗之和。实践上可用Epstein
试验(见美国材料与试验协会标准ASTM A343)来确定损耗，方法是
标准的样品施加标准的磁通密度和频率，测量样品中的功率损耗。
与设计和加工处理有关的因素会使总的损耗比根据Epstein试验得
出的损耗明显高一些，讨论如下：
虽然硅钢片上的氧化皮在电气上是绝缘的，但它不能完全磁化
，在很高磁动势情况下它才能显出有磁通通过。硅钢氧化层的磁滞
系数非常高，以至于一旦开始有磁通通过．总的磁滞损耗将迅速增
加。轧钢厂通常用酸洗法去除大部分以至全部的氧化层，随后既可
以由轧钢厂进行取代氧化皮的相应处理，也可以依靠电机制造厂施
加本质上属于低磁滞损耗的瓷漆j
老化系数铁磁材料的磁化性能，随使用日久并结合电机运行时
发热的影响会有所改变二这种老化伴随的是铁心损耗的增加，并且
为达到电机要求的性能而需要增加磁化电流。老化系数的正值代表
磁导率的降低：已经开发了标准化的试验．用于确定一个适当的样
品在特定的时问段和温度影响下的老化系数。这需要分别在老化时
间段之前和之后采集数据
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