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本文标题:"微电子技术微机械焊接辅助立体工业显微镜"

新闻来源:未知 发布时间:2018-1-21 2:16:36 本站主页地址:http://www.jiance17.com

微电子技术微机械焊接辅助立体工业显微镜

    微机械若进一步开发,必然需要复杂的微传感器,这样它们才
能测定空间的位置与方向以及相对于其他物体的临近程度。这些微
机械还应具有与遥控操作人员的通信能力,因此需要一种无线通信
链接装置(特别是要求它们进入人体内部时)。无线通信在某些声学
微传感器中已经做到了。
件发展相关联的一个主要问题是进一步解决合适的小型化电源。微
机械在空间运动需要较大的能量。如果需要做一些有用之事,如除
掉动脉中的血块,则需要更大的能量。因此,未来的MEMS器件可能
最终受限于通信链接装置和它的“电池包”尺寸!
    通向实用微机械的路途看来漫长而艰难,但朝向微传感器和ME
MS器件的最初几步已经迈出,

     IC制作技术的稳步进展一直是微电子技术革命的基础。本章
的主要目的是向读者介绍基本专业术语并概述加工硅片所需的各个
加工步骤。因此,本章首先介绍一些特殊材料,这些材料可以叫做
屯子材料。这些材料一般用于普通的IC工艺,某些可用作微电子机
械系统(MEMS)材料(参阅下一章)。电子材料并非只具有一般物理和
化学特性的材料:例如,电子材料的电特性范围可从近于理想的绝
缘体到良导体,其化学组分可从简单材料中的一种原子到化合物电
子材料中的数种原子。因此,电子材料这一术语没有物理和化学意
义;它只是指IC制作工艺中使用的材料。

    电子材料及其沉积
    在Ic制作中使用不同种类的体材料和薄膜材料。体材料主要是
半导体材料。Ic制作工艺中使用的最重要的半导体材料是硅和砷化
镓。Ic制作工艺中使用四类重要的薄膜材料(或同类材料):
    (1)热氧化硅;
    (2)介质层;
    (3)多晶硅;
    (4)金属薄膜(主要是铝)。
    介质层包括沉积的二氧化硅(有时称为氧化物)和氮化硅。这些
介质层材料用于导电层之间的绝缘,扩散和离子注入保护层,以及
保护器件免受杂质、潮湿侵害和划伤的钝化。多晶硅在金属氧化物
半导体(MOS)器件中用作栅电极,也用于多层金属化的导电材料和
浅结器件的接点材料。

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