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本文标题："光刻工艺分析最小形体尺寸计量图像显微镜"
新闻来源：未知 发布时间：2018-1-21 2:14:40 本站主页地址：http://www.jiance17.com
光刻工艺分析最小形体尺寸计量图像显微镜
光刻工艺
光刻是通过掩模在一种称为光刻胶的薄层材料上印刷几何图形
的工艺，光刻胶是一种对辐照敏感的材料。
图形制作过程通过光刻曝光装置发射光线来完成。决定曝光装
置性能的有三个特性：分辨率、对准精度和产出量。分辨率定义为
高保真地传输到位于晶片表面光刻胶膜上的最小形体尺寸。对准精
度是衡量连续几个掩模图形与晶片上先前确定的图形对准的准确程
度。产出量是指对于一个给定的掩模每小时可曝光的晶片数量。对
于不同的分辨率选择不同类型的光线
晶片和掩模之间的紧密接触可以得到很高的分辨率，通常高于
1μm。然而，接触印刷由于晶片表面上的颗粒与掩模接触而擦伤掩
模。这些颗粒最终会在掩模的透明区域形成不透明的暗点。
投影印刷是另一种曝光方法。在这种方法中，减小了遮蔽印刷
中产生的掩模损伤问题。投影印刷曝光装置将掩模图形的图像投射
到距掩模几厘米的被光刻胶覆盖的晶片上。在投影印刷中为提高分
辨率，每次只曝光掩模的一小部分。一个大约1mm宽的窄弧形像场
将掩模的缝隙图像顺次地转移到晶片上。
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