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本文标题："工艺上对抛光表面光亮度制件检测显微镜"
新闻来源：未知 发布时间：2016-11-9 1:38:31 本站主页地址：http://www.jiance17.com
工艺上对抛光表面光亮度制件检测显微镜
工艺上对抛光表面光亮度要求较高的制件，其前处理工艺，是
机械抛光一电解抛光。
工艺上对抛光表面光亮度要求一般的制件，可选用一般纯铝(9
9％以上)及铝—镁合金，这时可只做机械抛光预处理。
配方21是一个应用范围较广的抛光工艺。抛光的最佳温度
为110℃一120℃。抛光作业实际控制的温度，应随着溶液使用次数
的增多而逐渐升高，使越来越黏稠的抛光溶液具有较高的对流和扩
散能力。在补充抛光溶液(因使用较久而逐渐丧失抛光性能)的同时
，还应尽量减少被抛光制件表面黏附的抛光溶液，以免降低工艺损
耗，而且更便于水冲洗。反之，若不及时提高抛光溶液的使用温度
，就会发生黏稠的抛光液比较牢固地黏附在抛光表面，造成水洗困
难，而且会使抛光表面发乌，或形成一层白色(或蓝灰色)膜，影响
抛光表面的光泽。
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