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本文标题："电镀溶液金属离子的化合物-金属分析显微镜"
新闻来源：未知 发布时间：2016-10-5 23:40:44 本站主页地址：http://www.jiance17.com
电镀溶液金属离子的化合物-金属分析显微镜
配合物是由配位体和金属离子通过形成配位键而组成的一类新型的
化合物。所谓配位体，是指可提供孤对电子给金属离子的化合物，
如水中的氧原子、氨中的氮原子、硫代硫酸根中的硫原子以及各种
有机酸中的氧原子和氨基酸中的氮、氧原子等均可提供孤对电子，
因此，氨、硫代硫酸盐、氨基酸和有机羧酸就是通常我们所说的配
位体。由于配位体和金属离子几乎无所不在，因此，不论在人体内
，在自然界以及在许许多多的湿法工业制造过程中，都会用到配位
体或配合物，也就必然涉及到配合物的理论与应用。以金属制品的
电镀加工为例，从制品的除油去污、酸洗或腐蚀、化学或电化学抛
光、电镀、镀后的钝化与保护，无一不与配合物有关。
从电镀溶液(以下简称镀液)的配制，到金属镀层在阴极上形成
，其过程是非常复杂的。这个过程通常包括一连串的反应。例如，
要配制对设备腐蚀性小、镀层质量高的碱性镀液，单用该金属的盐
类就不行了，因为一般金属离子在中性或碱性时会生成氢氧化物沉
淀。要满足上述要求，就必须选择合适的配位体加入镀液，并在一
定条件下使它生成对碱稳定的配离子。这一过程就是形成配离子的
过程，这时的反应称为配位反应。配制好的镀液还可能有无机的或
有机的杂质存在，使用前，必须进行适当的处理。如用活性炭、锌
粉或通电处理等。也可加入适量的配位体使杂质被掩蔽，而不在阴
极上析出，这叫做电化学掩蔽反应。
若在配制好的电镀溶液中插入金属电极，在电极与镀液的界面
上就会产生电位差，平衡时的这种电位差就是该金属的平衡电位。
有配位体与无配位体时，镀液的平衡电位是不一样的。配位体的加
入，一般使金属离子的平衡电位向负的方向移动，即配离子的平衡
电位一般比简单金属离子的平衡电位更负些。这说明配位反应对金
属的平衡电位有明显的影响。
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