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本文标题："制造微电子IC产品的模型生产-光刻检测便携显微镜"
新闻来源：未知 发布时间：2016-9-1 14:30:45 本站主页地址：http://www.jiance17.com
制造微电子IC产品的模型生产-光刻检测便携显微镜
普通的光刻方法之一被用来在硅或者是其他的底层上压一层薄膜宋
制造模板。当模板的表面被蚀刻并且使硅烷化之后，液体PDMS前体就会
覆盖模型并且通过连接通道聚合。然后，将人造橡胶从模板上剥掉，并
且放在底层上处理。带有不同液体和悬浮液的PDMS压印的湿润过程在压
印之前就完成了。总的来说，模型的深度大约在0．2到20um之间，最大
值由PDMS结构的可靠性所限制。接触区域的宽度和面积在0．5到200gm
之间，间隔是由被压印底层的膨胀和接触之间的区域趋势所决定的。如
果PDMS压印附着于圆筒，软光刻就可以用于翻滚方式。
用于制造微电子IC产品的模型生产和转换包括一些有限的材料和相
关的处理。用于芯片的材料数量现在只有10个。铜连接、用于门隔离的
高电解质材料(k)和用于隔离内部连接线的低电解质材料都是新近加到I
C材料列表中的。在芯片生产时这些材料的处理步骤也需要10种之多。
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