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本文标题："蒸发和刻蚀制造工艺机械强度样品加工材料显微镜"
新闻来源：未知 发布时间：2016-8-31 12:24:23 本站主页地址：http://www.jiance17.com
蒸发和刻蚀制造工艺机械强度样品加工材料显微镜
场发射性能
场发射是指电子自固体表面逃逸到真空的量子力学隧穿现象。在外
加电场作用下，固体的表面势垒被压低减薄，使电子有一定几率穿透这
一势垒至真空。从固体中发射电子分为热电子发射、光电子发射和次级
电子发射三类，这些均需要给电子提供大于逸出功的额外能量才能发生
。场电子发射的特点是无需给电子提供额外能量就能发射出来。典型的
场发射应用实例是冷阴极，冷阴极具有电子能量分布窄、耗能低、稳定
性高等特点，被广泛用于显示器电子枪、扫描电镜电子枪、微波功率放
大器等领域。作为理想的场发射体材料应满足以下几个要求：①发射体
材料易于发射电子；②发射体材料是高熔点材料，因为发射体工作时通
过的电流密度很大，容易使局部温度过高；③发射体材料化学稳定性好
，因为发射体工作时局部温度较高，易与器件内残余气体反应，为了保
证发射体正常工作，必须要求选用化学稳定性好的高熔点材料；④发射
体材料具有一定的耐离子轰击能力，因为发射体工作时器件内残余气体
电离产生正离子，并与发射体阴极轰击碰撞，降低发射体使用寿命。
目前，场发射体材料的制造工艺通常以蒸发和刻蚀等为主。根据使
用条件不同，将其制作成单个发射体或发射体阵列，并使其端部具有微
尖结构。碳纳米管等一维纳米材料本身就具备场发射应用所需的尺寸要
求，综合考虑热导率、化学稳定性及机械强度等因素，碳纳米管等一维
纳米材料有望部分或全部取代目前的硅材料成为新一代场发射材料。
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