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原因:首先。在很多情况下测量极图时不使用测角器的摆动功能,
这样如果不考虑口角变化的影响,x射线束在整个测量极图的过
程中基本上照射同一部分晶粒.因此不会出现逻辑偏差;另外,当
晶粒极为细小时样品任何部位晶粒取向的分布状态都可能很接近
整体晶粒取向分布状态。
因而在整体上对极图质量的影响不大;再有,当待测样
品内的织构非常强时大多数晶粒取向会分布在某些取向位置附
近.在样品各个部位都会测到同种织构的存在,所以测量其它取
向晶粒时出现的逻辑偏差对整个极图的影响并不显得十分重要,
因而往往被人们所忽略。虽然有如上种种原因,但并不能否认逻
辑偏差的存在,只是逻辑偏差被掩盖了。这就造成了该问题的隐
蔽性。
一般认为,对于粗晶样品为了保证所测极图良好的统计性须
在测量样品时使用测角器的摆动功能。若样品内晶粒比较粗大而
且织构不很强.样品各部位的晶粒取向分布与整体分布的偏差就
会加大。同样尺寸的x射线束所能照射的晶粒数变少.因而同样
的衍射线不会在x射线束照射到的任何部位都出现,这时上述逻
辑偏差就不容易被掩盖住了。逻辑偏差的出现造成了极图质量的
下降。当人们由于样品晶粒粗而希望借助测角器的摆动功能增加
极图的统计性时明显出现了逻辑偏差,这就是问题的危害性。
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