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在扫描电镜的正常观察条件下,其扫描电子像(包括二次电
子像,背反射电子像或吸收电子像)所显示的衬度效应主要有三
种,即表面形貌衬度,原子序数衬度和表面电场和磁场所贡献的
衬度。但是,在特殊的光路条件下(例如在满足观察电子通道效
应的电子束的电子光学条件下),则所获得的扫描电子像,除了能
显示上述衬度效应外,还包括有反映晶体位向和晶体缺陷的衬
度,这种反映晶体位向和晶体缺陷的衬度,称为结晶学衬度。
理论分析表明,结晶学衬度是来源于电子通道效应。在第二
章中曾经指出,当高能电子进入到晶体试样时,由于入射电子与
晶格中原子相互作用,将会发生散射过程。但是,入射电子被晶
格中原子的散射几率是同电子束的入射方向有关,在入射角小于
衍射角的情况下,被背反射的几率较大;反之,在入射角大于衍
射角的情况下,被背散射的几率较小,这种现象称为电子通道效
应。在满足通道电子束的观察条件下,如果电子束的入射方向的
变化范围比较大
对试样要求
因为电子通道效应是发生在接近试样的表面,故试样表面的
清洁和不受机械损伤是十分重要的。经验表明,只有在晶体的外
延层和晶体生长的表面,或经过仔细化学抛光和电解抛光的试样
表面,且表面清洁无沾污,才容易观察到结晶学衬度。如果试样
表面存在如下情况:(o)表面被污染;(b)表面受机械加工;
(c)表面是非晶态; (d)表面晶粒度过于细小,使能完
全满足上述的电子光学条件,也观察不到结晶学衬度。
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