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由于电子轰击效应或者与等离子体的相互作用,玻璃
也能去气。
当制造薄膜型仪器或金属化图形时,将金属蒸发或溅
射到玻璃上面,上述现象是很重要的。
表面的粒状物质由于表面普遍存在粒子污染,所以净
化问题急需解决。其原因是对电子器件所需洁净度,以及
怎样彻底清除粒子的技术了解甚少,只认为这是一般的问
题。
虽然有了高效过滤器,并在洁净室的设计中得到了应
用,但是,要使表面完全没有灰尘或其它粒状物质,实际
上这是不可能的。即使只在层流罩内放几天,在显微镜黑
色管筒上也能看到粒状物质。同样,将硅片在标准罩内存
放一星期,由于选择性的粒子污染,硅表面出现了钠原子。
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