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但现代的高科技应用,要求对镀层中各种元素进行精细的化学分析。已经
清楚的是,哪怕电解液中存在极少量的有机杂质,也能对镀层的微观结构与物理
特性产生显著性影响。在确定微观结构与杂质含量之间的关系时,杂质成分信息
显得至关重要。例如,氢是镀层中常见的轻元素之一,氢不仅改变某些金属的微
观结构,也能使其力学性能发生变化。此外,氢与镀层内残余应力和裂纹的产生
也密切相关
简要概括一下OT概念:高过电位下沉积速率将变得很快,于是亚原子浓度
随之增加,促使更多的晶核形成,晶粒得以细化,结晶细致导致镀层表面光滑。
反之,低过电位下,沉积速率慢,晶粒有充分时间长大。粗大晶粒的形成,造成
了粗糙表面的发展。换言之,OT理论假定了表面粗糙度受晶粒大小支配。这个
假定表观上合理,但事实上增高过电位未必能促使晶粒细化。例如,采用脉冲电
镀技术可以达到很高的过电位,不免以为借之可获取微晶或非晶镀层(Ohno和
在上述实验研究中,观察到一个普遍性倾向:如果构成二元合金的都属于低
熔点金属,且彼此在整个成分范围内都具有互溶性,则该二元合金电镀层的相结
构将与其平衡相图上所给出的一致,与电镀规范无关。然而如果合金系中包含了
高熔点金属,且可形成金属间化合物,则该合金电镀层的相结构通常与其平衡相
图发生差异而变得复杂。个中差异表现为:所预期的金属间化合物消失,介稳相
或非晶相的形成,以及过饱和固溶体的生成。当合金镀层存在介稳相,X射线衍
射峰的分析往往变得复杂。在热力学上,介稳相是不稳定的,可以通过热处理使
之转化为稳态相。
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