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鉴于晶纤的透明性,可采用光学显微镜对晶纤缺陷进行观察.也
可采用电子显微分析技术分别对晶纤表面缺陷形貌及缺陷成分进行
分析。
晶纤的光学显微镜观察
采用光学显微镜对晶纤内部的散射颗拉及其它缺陷的研究比较
直观。且制样简单,只要把样品用乙醇擦拭。便于样品放在样品台上,
长度要求大于I厘米,对于较小样品,可用橡皮泥或其他夹具固定。
直径波动与显微缺陷(如汽泡、散射颗粒、生长条纹、裂缝或炸
裂、表面附着物等)与生长工艺参数(如熔区长度、速比、拉速)及不同
的晶纤材料有直接关系。
电子显微分析技术.
电子显微镜主要有两类:一类是透射式电子显微镜;另一类是扫
描式电子显微镜。它们都利用高速电子同试样作用时所产生的信息
成像,但两者所利用的信息种类有所不同,成像原理也有所区别。透
射式电子显微镜是利用试样对入射电子波的衍射成像。扫描式电子
显微镜主要利用非弹性碰撞过程中所产生的各种信息按类似于电视
的方式成像。由于扫描电镜具有:试样制备简单;能对试样的特定部
位同时作形貌、成分、结构等多项观察的优点,因此我们采用扫描电
镜观察晶纤表面缺陷并用电子探针能量色散谱(简称EDS)对缺陷进
行微区分析。
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