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高分辨率光学测量和结空间电荷技术都不能给出缺陷化学识别的信
息。这种信息通常是由电子自旋共振(ESR)结合其他方法得到的,例
如,当样品用不同能量的单色光照射时,将ESR谱与缺陷的能量位置关
联起来。由于对不同光子能量,ESR激活中心的光子感生的价电荷变化
有不同的时间关系,光发射率的能谱分布可以被测量并可以与从结空间
电荷技术,得到的谱进行比较。
另一个识别缺陷的技术是根据这样的事实,即对于杂质的原子量小
于基质晶体的原子量时,杂质的振动频率一般远高于声子频谱。由于强
的空间局域化,这就会在红外区产生具有尖锐的光谱吸收带的振动模。
结合同位素掺杂,于是可以识别某些缺陷中的有关原子。
而且,利用局域振动模(LVM)光谱与微扰相结合,例如极化探测
光和单轴应力或静压应力,人们就可以测定络合物缺陷的结构。正是强
有力的傅里叶变换光潜仪的发展,使得局域振动模光谱学的快速推广成
为可能。
在元素和化合物半导体中已被成功研究的轻杂质的例子是氢、碳和
氧。局域振动模光谱学在工业上也用于硅和集成电路生产中的各个阶段
的控制。
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