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环境温度或低温真空烘烤16小时以上,最终形成的器件电参数变化反映了封装
表面吸收湿气或其他挥发性材料的征兆.当被抽真空的器件不能接触高温时,便采用
环境温度或低溢真空烘烤。
若由于许多原因,的任何一种原因而不能对器件进行残余气体分析,则六封装中
戮通的小孔能在环境温度真空烘烤期间从封装内部除去潮气和挥发性气体。器件电
性能的改变或恢复表明封装中存在被吸收的潮气。
高温真空烘烤
高温真空烘烤(100^-200摄氏度 )最终造成的电参数变化仍然是封装表面上存在污染
物的征兆。高温真空烘烤能在较短处理时间内观察到漏电变化。
在两种真空供烤情况下,应将器件放在充氮气的容器或干燥器内,直到准备进行
测试。在高温真空烘烤的情况下,这将使器件在测试之前冷却和稳定而不会吸收任何
多余的潮气。器件在真空烘烤之后,还必须极其小心,以防重新污染。
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