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本文标题："金相制样的步骤简介-金属试样机械抛光机仪器厂商"
新闻来源：未知 发布时间：2014-4-1 15:25:40 本站主页地址：http://www.jiance17.com
金相制样的步骤简介-金属试样机械抛光机仪器厂商
机械抛光中的精抛：经粗抛光后的试样还需要进行精抛光。精抛
光的目的：是把试样检验面磨成一个平整光亮没有划道及因磨制操作
产生的其他缺陷，一般精抛光到试样上的磨底完全除去而表而像镜面
时为止。
精抛光所用的设备和粗抛光所用的设备基本相同，抛光盘直径一
般为200^-250毫米，转速（约为400-1450转/ 分之间）根据试样要求
而定，所有抛光材料（布和粉）也须根据检验的目的和被磨材料的性
质和状态来定
对于精抛用的磨料一般采用经过水选的极细氧化铝粉或氧化镁粉，
颗粒直径一般在0.3 μ~1 μ之间。水选方法是将磨碎的氧化铝粉放
入玻璃缸或瓷缸内，加入适量的水，调成稀浆，静置一段时间，待较
粗颗粒下沉后，用虹吸法将上层液体吸入另一玻璃缸内静置，使其中
极细的氧化铝（或氧化镁）粉颗粒下沉后即可使用。对硬质合金等特
硬材料，要用金刚石粉膏。
精抛光注意事项基本上和粗抛光相同，但还必须特别注意：
（1 ）要更加注意清洁，不使较粗颗粒的抛光粉混入抛光盘上和
精抛用的水浆中；
（2 ）试样在抛光盘上精抛时，用力要轻，要注意使之均衡，务
求平稳，须从盘的中心至边缘来回抛光，并不时滴加少许的磨粉悬浮
液，表面水膜能在2-3 秒钟内完全蒸发消失为宜。在抛光的完成阶段，
可将试样与抛光盘的转动方向成相反方向抛光；
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