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无法移除的金属残留物
金属残留物由于会导致电流短路,所以影响了良率。
即使由于铜金属与阻障层和介电层的颜色差异性,使得铜容易被检测,
然而对铜金属残留物的主要挑战在于如何将内连接线路上的铜金属残留物与小的铜斑点分离出来。
显示大块与小面积的残留铜金属斑点。
除了铜金属残留物外,阻障层残留物也经常被视为良率杀手,然而不像铜金属一般,
在介电层表面的阻障层残留物会视介电层的厚度而难以检测,
对某一个厚度的二氧化矽层而言,介电层表面会处于反射光的黑暗边缘内,
让阻障层残留物的检测变得更困难。不充分的研磨时间会造成阻障层的残留,
例如一道阻障层移除程序由于其对研磨时间的限制,会产生研磨非均匀性;
或是由于前一个层次的凹陷形状,在下一个层次会造成阻障层的浅漥状缺陷(barrier pools),
因此产生表面的不平坦。当阻障层的浅漥状缺陷与铜垫接触时,
这些缺陷即会成为良率杀手,
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