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CCD采集成像搭配显微高解析度光学目镜-精密雕刻
提供了一种新的结合影像采集与激光雕刻系统的光学架构,
目标在于改良传统激光雕刻系统的光学架构,提供同步且精準的影像对位功能。
其作用方式为利用CCD影像采集成像方式,事先采集
工件的影像,
获得与雕刻解析度相当的光学影像,以设定工作区域的大小与位置,并据以精密校準工件工作区域的3D位置。
如此,传统上因目视校正所造成的误差可大幅减小,
且可避免多次的尝试错误,并可快速定位,大幅降低寻找与对位工作区域的时间。
应用激光雕刻系统原理并改良传统激光雕刻系统的光学架构。
其工作概念原理为结合小型Galvo-mirror暨共焦成像方式,
再配合高精密度Projection Lens结合4f 系统与高数值孔径(Numerical Aperture)
物镜且大面积扫描特性,以此系统可及时定位雕刻工件的显微影像,
其显微解析度最小可小于1.0μm。如此,将传统激光雕刻系统雕刻大范围改良至高解析度的显微雕刻系统。
显微雕刻系统有二:
(一)飞秒激光显微雕刻系统。(二) 奈秒激光显微雕刻系统。
使用Multi-Wall Carbon Nanotube当做sample,
并配合SEM(扫描式电子
显微镜)比较飞秒激光与奈秒激光做显微雕刻时
所产生不同的激光与物质交互作用而所产生的不同结果。
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